Micro-elektronica-industrie

Elektronische chemicaliën:Dit wordt ook wel elektronische chemische materialen genoemd. Het verwijst over het algemeen naar het gebruik van speciale chemicaliën en chemische materialen in de elektronica-industrie, zoals elektronische componenten, printplaten en allerlei chemicaliën en materialen die worden gebruikt bij de verpakking en productie van industriële en consumentenproducten. Ze kunnen worden onderverdeeld in de volgende categorieën op basis van hun toepassingen: basisplaten, fotolak, galvaniseerchemicaliën, inkapselingsmateriaal, zeer zuivere reagentia, speciale gassen, oplosmiddelen, reinigingsmiddelen, doperingsmiddelen, soldeermaskers, zuren en logen, speciale elektronische lijmen en hulpstoffen, enzovoort. Elektronische chemicaliën kenmerken zich door een grote diversiteit, hoge kwaliteitseisen, kleine doseringen, hoge eisen aan milieuvriendelijkheid, snelle productverbetering, een grote netto-instroom en een hoge toegevoegde waarde. Deze kenmerken worden steeds duidelijker naarmate de microbewerkingstechnologie zich verder ontwikkelt.

Filtratiedoel:

om deeltjes en colloïdale onzuiverheden te verwijderen;

Filtratie-eisen:

1. Vanwege de hoge viscositeit van de filtervloeistof moet de filterbehuizing doorgaans bestand zijn tegen hoge druk en mechanische belasting.

2. Het filtermateriaal moet een goede compatibiliteit hebben;

3. Goede filtratie-efficiëntie bij het verwijderen van deeltjes en colloïdale onzuiverheden.

Filterconfiguratie:

Een printplaat, ook wel PCB genoemd, zorgt voor de elektrische verbinding tussen elektronische componenten. Afhankelijk van het aantal lagen kan een printplaat worden onderverdeeld in enkel-, dubbel-, vier-, zes- en andere meerlaagse printplaten.

Filtratiedoel:

om deeltjes en colloïdale onzuiverheden uit het water of de vloeistof te verwijderen;

Filtratie-eisen:

1. Hoge doorstroomsnelheid, hoge mechanische sterkte, lange levensduur.

2. Uitstekende filtratie-efficiëntie.

Filterconfiguratie:

Filtratieprocedure:

CMP staat voor Chemisch Mechanisch Polijsten. De apparatuur en verbruiksartikelen die bij CMP-technologie worden gebruikt, omvatten: polijstmachine, polijstpasta, polijstpads, reinigingsapparatuur na CMP, apparatuur voor detectie en procescontrole van het polijstproces, afvalverwerkings- en testapparatuur, enzovoort.

CMP-polijstvloeistof is een soort zeer zuiver en ionenarm metaalpolijstmiddel, vervaardigd door middel van een speciaal proces met zeer zuiver siliciumpoeder als grondstof. Het wordt veel gebruikt voor het polijsten van diverse materialen op nanoschaal met een hoge vlakheid.

Filtratiedoel:

om deeltjes en colloïdale onzuiverheden te verwijderen;

Filtratie-eisen:

1. Lage concentratie oplosbare stoffen in het filtermedium, geen mediumverlies.

2. Goed vermogen om onzuiverheden te verwijderen, lange levensduur.

3. Hoge doorstroomsnelheid, hoge mechanische sterkte

Filterconfiguratie:

Filtratieprocedure: